Módulo láser acoplado de fibra de alta potencia 10W 375nm

El módulo láser acoplado de fibra de alta potencia, 10 W y 375 nm: una fuente de luz UV de vanguardia optimizada para máquinas de litografía avanzadas, incluidos sistemas de imágenes láser directas (LDI), alineadores sin máscara y equipos de fotolitografía semiconductora. Combinando la absorción fotorresistente superior de la longitud de onda ultravioleta cercana de 375 nm, una salida de alta potencia de 10 W y una tecnología de acoplamiento de fibra de precisión, este módulo ofrece una velocidad de exposición, resolución y estabilidad inigualables para la microfabricación de semiconductores, PCB, chips LED y dispositivos de microfluidos.

Ventajas principales para la precisión y eficiencia de la litografía

1. Longitud de onda ultravioleta cercana a 375 nm: optimización del fotorresistente para patrones de alta resolución

• La luz ultravioleta cercana de 375 nm (tolerancia de ±2 nm) ofrece una eficiencia de absorción entre un 50 % y un 80 % mayor en fotoprotectores de línea g/línea h en comparación con los láseres violetas de 405 nm, lo que permite una resolución submicrónica (hasta 0,5 μm) y bordes de patrones más nítidos para la fabricación de semiconductores y PCB.

• La longitud de onda se encuentra dentro de la ventana de absorción óptima para la mayoría de los fotoprotectores comerciales, lo que minimiza los requisitos de energía de exposición y reduce la distorsión del patrón inducida por el calor.

• El ancho de línea espectral ultraestrecho (≤5 nm FWHM) garantiza una respuesta fotorresistente consistente en todo el campo de exposición, eliminando las variaciones del patrón inducidas por el cambio de color.

2. Salida de alta potencia de 10 W: rendimiento de litografía acelerado

• La potencia de salida CW de 10 W a través de fibra multimodo de 105 μm/200 μm (personalizable) ofrece una alta densidad de energía en el plano de exposición, lo que reduce el tiempo de exposición en un 60 % en comparación con los módulos de 5 W para líneas de producción de gran volumen.

• Al integrarse con un sistema de refrigeración por agua, la estabilidad de potencia ≤±0,5% durante 8 horas garantiza una exposición uniforme en sustratos grandes, fundamental para mantener una calidad de patrón constante en la fabricación por lotes.

• La modulación PWM de 0 a 100 % con tiempo de respuesta de nivel de microsegundos permite una litografía precisa en escala de grises y un control dinámico de la exposición para microestructuras 3D.

3. Acoplamiento de fibra de precisión: integración flexible y entrega uniforme del haz

• El acoplamiento de fibra de alta eficiencia (≥85%) minimiza la pérdida óptica, asegurando la máxima transmisión de potencia al sistema de escaneo de la máquina de litografía.

• Las opciones de longitud de fibra de 2 a 10 m (fibra de sílice de grado UV con revestimiento antirreflectante) brindan una integración flexible en rutas ópticas de litografía complejas sin comprometer la calidad del haz.

4. Compatibilidad del sistema de litografía y control inteligente

• La interfaz de comunicación digital RS485 permite el monitoreo y ajuste en tiempo real de los parámetros de potencia, temperatura y modulación, integrándose perfectamente con los controladores de la máquina de litografía.

• El diseño modular con conectores de fibra estándar (FC/PC, SMA905) se adapta a la mayoría de las máquinas de litografía comerciales, incluidas Raith PicoMaster, Heidelberg MLA150 y sistemas LDI domésticos.