Potente 105um 405 nm 20W Módulo láser acoplado a fibra UV para equipos de litografía

Este potente módulo láser acoplado de fibra violeta de 105um, 405nm y 20W es un componente central de nivel profesional diseñado exclusivamente para equipos de litografía, que integra la característica de fotón de alta energía del láser violeta de 405nm, una salida de alta potencia de 20W y una transmisión de acoplamiento de fibra de precisión de 105μm. Proporciona energía láser estable y enfocada para la exposición de fotoprotectores y micromodelos, convirtiéndose en una pieza clave en sistemas de litografía microelectrónica, PCB y semiconductores, lo que garantiza un procesamiento de litografía de alta resolución y alta eficiencia.

Principales ventajas técnicas de los equipos de litografía

- Optimización de la litografía de longitud de onda violeta de 405 nm: 405 nm es la longitud de onda óptima para los fotorresistentes convencionales (tono positivo/negativo), lo que permite una absorción eficiente de fotones para desencadenar reacciones fotoquímicas. El láser acoplado de fibra de 405 nm y 20 W admite una resolución de nivel submicrónico en el procesamiento de litografía, superando longitudes de onda más largas en la representación de patrones finos, fundamental para la fabricación de chips semiconductores y circuitos PCB de alta densidad.

- Alta potencia de 20 W para una exposición rápida: con una salida CW estable, la alta potencia de 20 W acelera la velocidad de exposición del fotorresistente en un 40 % en comparación con los módulos de 10 W. Reduce el tiempo de exposición por unidad de área a ≤50 ms/cm², cumpliendo con los requisitos de alto rendimiento de los equipos de litografía producidos en masa y al mismo tiempo garantiza una distribución uniforme de la energía.

- Transmisión de precisión de acoplamiento de fibra de 105 μm: Equipado con fibra de sílice de diámetro de núcleo de 105 μm (apertura numérica NA=0,22, eficiencia de acoplamiento ≥85%), transmite energía láser con una pérdida mínima. El pequeño núcleo de la fibra garantiza un punto de haz enfocado para un patrón fotorresistente preciso, y su flexibilidad permite la alineación con la trayectoria óptica del equipo de litografía, alcanzando áreas de exposición estrechas o complejas.

- Estabilidad y confiabilidad de grado litográfico: adopta una matriz de láser semiconductor de alta potencia y un sistema de enfriamiento activo (refrigeración por agua + disipador de calor), manteniendo un funcionamiento estable a 20 ℃ -25 ℃ (temperatura del proceso de litografía). Admite exposición continua las 24 horas del día, los 7 días de la semana (vida útil >1000 horas) con una deriva de energía ≤0,5%/1000 horas, evitando la distorsión del patrón de litografía causada por las fluctuaciones de energía.